GSM-сигнализация: производство и поставки
09:09 Опубликована новая глава руководства инженера-разработчика TI по проектированию устройств с операционными усилителями на русском языке
07:09 SDSВЕТ приглашает на строительную выставку «МосБилд-2019»
05:08 Высокотехнологичные решения Legrand были применены для модернизации городских объектов Красноярска
03:08 В марте 2019 года «Кировэнерго» подключил к электросетям новые цеха по производству клееного бруса «Хольц Хаус»

​Американская компания Energetiq Technology стала частью Hamamatsu Photonics.

​Американская компания Energetiq Technology стала частью Hamamatsu Photonics.

Американская компания Energetiq Technology, производитель источников излучения с лазерным возбуждением плазмы, стала частью Hamamatsu Photonics.

Продукцию Energetiq отличает чрезвычайно высокая яркость в УФ, видимом диапазоне и ближнем ИК. Помимо этого, источники излучения Energetiq являются промышленным стандартом в сфере литографии в глубоком ультрафиолете (EUV).

Сочетание инноваций и технологий Hamamatsu, а также глубокое понимание Energetiq физики плазмы, необходимое для создания высокопроизводительных источников излучения, большой опыт в создании надежных продуктов для промышленности и науки, позволит заказчикам получать продукты, отличающиеся высочайшим уровнем производительности и надежности.

Все данные широкополосные источники излучения используют революционную технологию Energetiq, названную Laser-Driven Light Source (LDLS™) — источник света с лазерным возбуждением плазмы. Она позволяет достигнуть очень высокой яркости в широком спектральном диапазоне, от 170 нм до видимого и далее, в безэлектродном исполнении.

Помимо этого, источники Energetiq отличает очень высокое время наработки, на порядки превышающее показатели традиционных ламп.

На рисунке ниже представлена спектральная зависимость энергетической яркости источников излучения Energetiq в сравнении с традиционными лампами:

Суть безэлектродной технологии LDLS заключается в использовании лазера, работающего в непрерывном режиме, для прямого нагрева ксеноновой плазмы до высоких температур, необходимых для получения достаточно глубокого УФ излучения. В традиционных подходах, для решения таких задач используются лампы с дуговым разрядом и дейтериевые лампы, в которых, использование электродов для передачи мощности плазмы ограничивает яркость, УФ мощность и время жизни лампы.

Ниже, принцип действия источника LDLS приведен в схематичном виде:

принцип действия источника LDLS

Более подробная информация о продукции Energetiq

Источник

Читайте также